جسم تسخين فولاذ التنجستن من مادة لاصقة ورقية مثبتة في آلة إنتاج السجائر Mk8

السخان هو مكون تم تجميعه على حلية زينة من آلات صنع السجائر لتسخين المادة اللاصقة عند لصق ورق السجائر.

• شروط الشحن:

المفضل: EXW ، FOB ، CIF ، CFR

It is our priority to provide quotation with EXW terms applied price. من أولوياتنا تقديم عرض أسعار بشروط EXW المطبقة. Yet for final shipment the other 3 sets of shipping terms are most recommended. ومع ذلك ، بالنسبة للشحنة النهائية ، يوصى باستخدام المجموعات الثلاث الأخرى من شروط الشحن. We prefer to have the export clearance process done by ourselves since normally we know China's customs more than clients do. نحن نفضل إجراء عملية تخليص الصادرات من قبل أنفسنا لأننا عادة نعرف الجمارك الصينية أكثر مما يعرفه العملاء. Also the tax rebate procedure can be more or less simplified if we clear the custom on our own. كما يمكن تبسيط إجراء الخصم الضريبي بشكل أو بآخر إذا قمنا بمسح العرف الخاص بنا.

بالنسبة لأي شروط شحن أخرى خاصة تلك التي لا يكون فيها تخليص الصادرات ملزماً لنا برؤيته ، يرجى الاتصال بنا لمزيد من المفاوضات التفصيلية ، لتجنب الاختلاف.

• سخان احباط محفورا

Etched foil elements are generally made from the same alloys as resistance wire elements, but are produced with a subtractive photo-etching process that starts with a continuous sheet of metal foil and ends with a complex resistance pattern. تُصنع عناصر الرقائق المحفورة بشكل عام من نفس السبائك مثل عناصر سلك المقاومة ، ولكنها تُنتَج بعملية حفر ضوئي للصور تبدأ بطبقة مستمرة من الرقاقة المعدنية وتنتهي بنمط مقاومة معقد. These elements are commonly found in precision heating applications like medical diagnostics and aerospace. توجد هذه العناصر بشكل شائع في تطبيقات التسخين الدقيقة مثل التشخيص الطبي والطيران.

• مبيد الموليبدينوم

Molybdenum disilicide (MoSi2) an intermetallic compound, a silicide of molybdenum, is a refractory ceramic primarily used in heating elements. مبيد الموليبدينوم (MoSi2) مركب معدني ، سيليسيوم الموليبدينوم ، عبارة عن سيراميك حراري يستخدم في المقام الأول في عناصر التسخين. It has moderate density, melting point 2030 °C (3686 °F) and is electrically conductive. لها كثافة معتدلة ، نقطة انصهار 2030 درجة مئوية (3686 درجة فهرنهايت) وهي موصلة للكهرباء. At high temperatures it forms a passivation layer of silicon dioxide, protecting it from further oxidation. في درجات الحرارة المرتفعة ، تشكل طبقة تخميل لثاني أكسيد السيليكون ، وتحميها من مزيد من الأكسدة. The application area includes glass industry, ceramic sintering, heat treatment furnaces and semiconductor diffusion furnaces. تشمل منطقة التطبيق صناعة الزجاج ، تلبيد السيراميك ، أفران المعالجة الحرارية وأفران نشر أشباه الموصلات.